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論文

Hollow density profile on electron cyclotron resonance heating JFT-2M plasma

山内 俊彦; 星野 克道; 川島 寿人; 小川 俊英; 河上 知秀; 椎名 富雄; 石毛 洋一*

Japanese Journal of Applied Physics, Part 1, 37(10), p.5735 - 5741, 1998/10

 被引用回数:3 パーセンタイル:18.91(Physics, Applied)

JFT-2Mトカマクにおける電子サイクロトロン共鳴加熱プラズマで、電子密度分布がホロー化していることを初めて、TVトムソン散乱装置によって測定することができた。この時の電子サイクロトロン共鳴加熱パワー250KWで電子密度は1.2$$times$$10$$^{13}$$cm$$^{-3}$$であった。電子温度は逆に中心が加熱され、2.7keVで飽和していた。この原因として、スーパーサーマル電子によるもの、負磁気シェアによるもの、及び電子のドリフトによるもの等考えられた。ここでは、スーパーサーマル電子による電界で中心の電子密度がポンプアウトされるとして評価すると、密度の減少分は実験値を説明できた。

論文

Sharp hollow density profile with TVTS on ECRH JFT-2M plasma

山内 俊彦; 星野 克道; 川島 寿人; 小川 俊英

Physics Letters A, 246(6), p.534 - 541, 1998/00

 被引用回数:1 パーセンタイル:15.76(Physics, Multidisciplinary)

JFT-2Mトカマクプラズマに電子サイクロトロン共鳴加熱(ECRH:Oモードの中心加熱、約250KW入射)を行った時、プラズマ中心にホローのある電子密度分布が初めてTVトムソン散乱装置によって測定された。周辺の分布は、中心領域からの粒子のポンプアウトと外からのガスパスの入射により増加している。このホロー化は時間とともに深くなり、約40ms後に飽和し、少々の温度減少があってもホロー比を一定に保っている。このホロー比はトムソン散乱信号のフィッテング曲線の誤差から生じているのではなく、電子加熱帯周辺の急激な温度勾配と強く関係している。

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